NUEVA YORK, 27 Feb. (EUROPA PRESS) -
El grupo informático estadounidense Intel invertirá 1.000 millones de dólares (760 millones de euros) en sus instalaciones de Río Rancho, en Nuevo México (Sur de Estados Unidos), para desarrollar nuevas tecnologías de fabricación de componentes de 45 nanometros (nm.), anunció la compañía.
La planta de Nuevo México, conocida como Fab 11X, se convertirá tras la inversión en la cuarto fábrica de Intel que produce componentes de 45 nm., cuyos primeros ejemplares estarán dispoibles a partir del segundo semestre del año que viene.
La nueva tecnología incluye una combinación innovadora de nuevos materiales y servirá para reducir en buena parte las fugas eléctricas y mejorar el rendimiento de los transistores. "Nuestro nuevo proceso de fabricación de componentes a 45 nm. representa una de las innovaciones más importantes en fabricación que se ha producido en décadas y pensamos que su incorporación en nuestra fábrica de Nuevo México nos va a permitir ofrecer a nuestros clientes los mejores productos posibles", aseguró el presidente y consejero delegado de Intel, Paul Otellini.
La producción inicial de componentes de 45 nm. se iniciará en la fábrica de Oregón (Noroeste), conocida como D1D, y se expandirá después no sólo al complejo de Nuevo México, sino a otras dos plantas de Estados Unidos.